隨著中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在高集成度、低功耗等關(guān)鍵技術(shù)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破，韓國研究機(jī)構(gòu)近期警示“技術(shù)差距擴(kuò)大風(fēng)險(xiǎn)”，呼吁加速技術(shù)迭代。2024年中國集成電路出口額突破1萬億元，產(chǎn)業(yè)鏈自主化能力顯著提升，而韓國則聚焦先進(jìn)制程與存儲(chǔ)芯片反擊。2025年，中韓半導(dǎo)體競(jìng)爭(zhēng)將進(jìn)入“創(chuàng)新競(jìng)速”與“供應(yīng)鏈角力”并行的新階段。
?競(jìng)爭(zhēng)焦點(diǎn)一：第三代半導(dǎo)體與先進(jìn)制程?
?中國：碳化硅（SiC）、氮化鎵（GaN）商業(yè)化加速?
2024年天岳先進(jìn)碳化硅襯底全球市占率超15%，2025年有望通過港股融資擴(kuò)大產(chǎn)能，目標(biāo)覆蓋新能源汽車、光伏等萬億級(jí)市場(chǎng)。中芯國際、華虹半導(dǎo)體等企業(yè)加速推進(jìn)14納米以下邏輯芯片量產(chǎn)，先進(jìn)封裝技術(shù)（如Chiplet）滲透率持續(xù)提升。
?韓國：3納米以下制程突圍?
SK海力士龍仁晶圓廠計(jì)劃2026年試產(chǎn)，2025年將完成設(shè)備導(dǎo)入與工藝驗(yàn)證；三星電子聯(lián)合ASML推進(jìn)High NA EUV光刻技術(shù)，目標(biāo)在2025年底實(shí)現(xiàn)2納米芯片量產(chǎn)，爭(zhēng)奪AI與高性能計(jì)算（HPC）市場(chǎng)主導(dǎo)權(quán)。
?競(jìng)爭(zhēng)焦點(diǎn)二：供應(yīng)鏈自主與全球化博弈?
?中國：出口額破萬億后的新挑戰(zhàn)?
2024年前11個(gè)月集成電路出口額同比增長(zhǎng)22%，但高端設(shè)備、EDA工具仍依賴進(jìn)口。2025年政策或?qū)⒓哟a國產(chǎn)替代，聚焦光刻機(jī)、材料等“卡脖子”環(huán)節(jié)，同時(shí)通過“一帶一路”拓展新興市場(chǎng)。
?韓國：技術(shù)聯(lián)盟應(yīng)對(duì)地緣風(fēng)險(xiǎn)?
韓國計(jì)劃強(qiáng)化與美、歐在半導(dǎo)體設(shè)備、IP領(lǐng)域的合作，并借力《芯片法案》補(bǔ)貼吸引跨國企業(yè)投資。專家指出，韓國需在存儲(chǔ)芯片優(yōu)勢(shì)外，構(gòu)建邏輯芯片生態(tài)以對(duì)沖中國競(jìng)爭(zhēng)。
?行業(yè)預(yù)測(cè)與專家觀點(diǎn)?
?市場(chǎng)格局?：2025年中國在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)份額或提升至18%，韓國或因存儲(chǔ)芯片價(jià)格波動(dòng)面臨增長(zhǎng)壓力（數(shù)據(jù)來源：SEMI）。
?技術(shù)路徑?：韓國科學(xué)技術(shù)院（KAIST）教授李明浩稱：“韓國需在3D集成、存算一體等顛覆性技術(shù)上搶占先機(jī)，而非僅追趕制程節(jié)點(diǎn)。”
?政策風(fēng)險(xiǎn)?：美國對(duì)華技術(shù)限制或迫使中韓企業(yè)調(diào)整供應(yīng)鏈，中國可能以反制措施加劇本土化進(jìn)程。
注：本文為預(yù)測(cè)性分析，部分?jǐn)?shù)據(jù)基于行業(yè)趨勢(shì)及歷史動(dòng)態(tài)推演
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